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          Nanosystem NVF-2700 非接觸式3D輪廓儀

          簡要描述:Nanosystem NVF-2700 非接觸式3D輪廓儀,通過非接觸式的方法對0.1nm-270nm的3維表面形貌進行高進度和高速測量。利用物鏡轉(zhuǎn)臺可方便的進行放大倍數(shù)的轉(zhuǎn)換。使用拼接功能可分析寬廣的表面。

          • 產(chǎn)品型號:
          • 廠商性質(zhì):代理商
          • 更新時間:2020-11-10
          • 訪  問  量:2694

          詳細介紹

          品牌其他品牌價格區(qū)間100萬-200萬
          產(chǎn)品種類非接觸式輪廓儀/粗糙度儀產(chǎn)地類別進口
          應(yīng)用領(lǐng)域電子/電池,航空航天,汽車及零部件,電氣

          Nanosystem NVF-2700 非接觸式3D輪廓儀通過的技術(shù)力對多樣研究所有的表面提供優(yōu)化解決方案。所有的功能實現(xiàn)全自動快速運轉(zhuǎn)。

          NVF-2700可以快測量所有表面的測量儀,利用持有的白光干涉儀WSI和相應(yīng)算法開發(fā)的產(chǎn)品。X,Y,Z軸全部設(shè)計為全自動,通過可調(diào)節(jié)F.O.V鏡頭,自動構(gòu)成多樣的倍率。此產(chǎn)品專為研究所,大學(xué)和工藝管理而制作的產(chǎn)品。此設(shè)備可以通過拼接(Stitching)功能可以進行大面積(500?)測量。

          得到的WSI/PSI技術(shù),只需要表面有1%的反射率即可測量,表面現(xiàn)象中的高度,寬度,幅度,粗糙度(Ra, Rq, Rz, Rt, etc)等各種項目均可測量。


          此外,WSI的高度分辨率為0.1nm,2秒鐘時間即可掃描所有的表面,在不破壞樣品的情況下,可測定0.1nm到1000um的樣品,均可觀察2D/3D的現(xiàn)象。不僅如此,更是保障了0.1%(1σ)世界水準(zhǔn)的重復(fù)性,本公司保有的技術(shù)可應(yīng)用于 PCB, display, engineering part, chemical material, optical parts, bio, R&D等方面。

           

          Nanosystem NVF-2700 非接觸式3D輪廓儀的優(yōu)點

          ·       優(yōu)良的測量精度

          ·       抗振動設(shè)計

          ·       快速測量速度

          ·       友好的測量界面

          ·       Stitching功能

          ·       2D3D多功能性能

           

          主要功能

          ·       3D 形貌測量

          ·       粗糙度 (ISO 25178) 和平整度 (選項)

          ·       高度,深度,寬度(從亞納米到10mm)·

          ·       面積信息(體積,面積)

          ·       2D3D 測量

          特點

          Fast ,Reliable, Fine = Reducing R & D Time

          納米級的幾何光學(xué)測量

          粗糙度,段差,細微形貌,薄膜表面

          Full range scan只需要兩秒! 掃描速度Max. 116μm/S

          兩步A/F簡單準(zhǔn)備的全自動聚焦

          ISO Roughness參數(shù)(ISO25178/12781/4287等)

          可一次性分析透明薄膜厚度及內(nèi)部形貌(選購)

          產(chǎn)品規(guī)格:

          測量方法:白光掃描干涉法/相移干涉法

          FOV鏡頭:4位電動轉(zhuǎn)塔,可加裝F.O.V(選項)

          干涉物鏡:5物鏡可選(程控)

          光源:白光LED照明

          掃描范圍:≤270um(PZT)

          掃描速度:12μm/sec (1x~5x用戶可選)

          垂直分辨率:WSI:﹤0.5nm ,PSI :﹤0.1nm

          橫向分辨率:0.2-4μm(取決于物鏡和FOV)

          臺階高度重復(fù)性:0.1%@1σ (標(biāo)準(zhǔn)8um臺階樣品)

          傾斜度:±6°

          XY行程:100mmX100mm

          工作臺尺寸: 230X230mm(程控)

          選項

          FOV鏡頭: 0.5X,0.75X,1X,1.5X,2X(可選)

          干涉物鏡:2.5x, 5x, 10x, 20x, 50x, 100x (可選)

          掃描范圍:多達可達10mm(電機掃描選項)

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